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日本ITOH伊藤制作所研钵耐药研钵 PEX-60的使用方法

更新时间:2025-12-19点击次数:18
日本 ITOH PEX - 60 耐药研钵为高分子耐药树脂材质,适配酸碱 / 有机溶剂等腐蚀性样品的微量研磨,注意事项与适配限制内容:

一、使用前准备

1.物料适配确认:适配莫氏硬度≤3 的软质 / 脆性样品,像制药中间体、精细化工品、生物样品、腐蚀性矿物粉末等都适用;严禁研磨金刚石、刚玉、石英等超硬物料,防止损伤钵体。

2.研钵与研棒检查:核对 PEX - 60 钵体(内径约 50mm,外径约 60mm)与配套耐药树脂研棒,确保表面无裂纹、划痕、变形,研棒与钵体贴合度良好;检查密封配件(如适用)是否完好,避免研磨时样品泄漏或挥发。

3.环境与安全准备:研钵放置在防滑橡胶垫或实验台上,佩戴耐化学腐蚀手套、护目镜;处理强挥发性 / 腐蚀性样品时,要在通风橱内操作,必要时使用配套密封盖或开孔防护片。

4.装样量控制:手工研磨装样量不超过钵体容积 1/3(约 5-8g),机械研磨不超过 1/2,避免物料飞溅与研磨不均。

二、手工研磨操作步骤

1.样品预处理:大块样品先剪碎或压碎至粒径≤5mm,避免直接捣碎损伤钵体与研棒。

2.研磨操作:研棒垂直置于钵体中心,以圆周方向轻压旋转研磨,保持力度均匀,避免局部过度施压;干磨时控制研磨速度,防止树脂发热软化;湿磨可加入少量适配溶剂(如乙醇、丙酮,避免强氧化性溶剂),提升研磨效率与粒度均匀性。

3.样品收集:研磨至目标粒度(通常为微米级)后,用 PE/PTFE 材质刮刀沿钵壁刮取,别用金属刮刀,防止刮伤内壁;微量样品可借助洗耳球吹取收集。

三、机械研磨适配与操作(适配小型振动 / 行星球磨机)

1.设备适配:选用 ITOH LP - M2 等小型球磨机,搭配 PEX 系列专用夹具,确保研钵固定无晃动。

2.参数设置:转速控制在 100-300rpm,研磨时间 5-30min,可根据物料特性调整;机械研磨优先选择湿磨,减少树脂磨损与样品污染。

3.运行监控:启动后密切观察运行状态,若有异常振动需立即停机,检查研钵固定情况与物料量。

四、清洁与维护流程

1.初步清洁:使用后立即用清水或适配溶剂冲洗,清除残留样品,避免物料干结;禁用金属刷子或硬质清洁工具,防止划伤内壁。

2.深度清洁:若有顽固污渍,可加入少量中性洗涤剂,用 PE/PTFE 软刷轻轻刷洗,之后用纯水或溶剂冲洗 3-5 次;可进行超声清洗(功率≤100W,时间≤5min),避免长时间超声导致变形。

3.干燥与存放:自然晾干或在 60℃以下低温烘干,严禁高温烘烤;存放于干燥、无腐蚀性气体的环境,研钵与研棒分开收纳,避免相互挤压划伤。

五、核心使用禁忌与注意事项

1.禁止与qin氟酸、王水、强氧化剂(如高锰酸钾、浓硫酸)等接触,防止材质被腐蚀降解。

2.严禁研磨超硬物料、易燃易爆物、强磁性样品,避免钵体损伤与安全风险。

3.机械研磨时不得超过设备zui大转速与研钵适配负荷,防止树脂疲劳断裂。

4.长期不使用时,要定期检查材质状态,发现裂纹、变形需立即停用。

六、适配与限制场景

适配场景方面,样品类型上,适合制药、化工、环境领域的腐蚀性软质样品研磨;研磨方式上,适配手工微量研磨和小型机械研磨;分析适配方面,可用于 HPLC、UV 等常规成分分析。限制场景方面,超硬物料以及强氧化性、强酸性样品不适合用该研钵研磨;大型行星球磨机、高速研磨等方式也不适用;对于 ICP - MS、XRF 等高精度超纯分析场景,也不建议使用。


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