产品简介

中村供应：FUJIFILM/富士胶片i-Line光刻胶
富士胶片 OiR 620 是面向0.30μm 级关键层量产的gao端 i‑Line（365nm）正性光刻胶，主打超高分辨率、宽工艺窗口、高产能适配，是成熟制程（0.35μm–0.30μm）的biao杆型号。

中村供应：FUJIFILM/富士胶片i-Line光刻胶

富士胶片 OiR 620 是面向0.30μm 级关键层量产的gao端 i‑Line（365nm）正性光刻胶，主打超高分辨率、宽工艺窗口、高产能适配，是成熟制程（0.35μm–0.30μm）的biao杆型号。

中村供应：FUJIFILM/富士胶片i-Line光刻胶

一、核心技术参数

• 适用波长：i‑Line（365nm）

• 分辨率：常规照明 <0.28μm；环形照明可缩至 0.25μm

• 曝光灵敏度：220 mJ/cm²

• 焦深（DOF）：

• 0.35μm L/S：>1.2μm（常规照明）

• 0.30μm L/S：>1.0μm（常规照明）

• 显影适配：标准 0.262N TMAH 显影液（含 / 不含表面活性剂）

• 体系：酚醛树脂 + DNQ 感光剂，EL/EEP 环保溶剂

• 定位：非反射衬底专用、关键层量产型

二、核心特点与优势

1. 超高分辨率，满足 0.30μm 量产

• 常规照明即可实现 <0.28μm 线宽，环形照明可至 0.25μm，覆盖 0.35μm–0.30μm 关键层。

• 基于zhuan利酚醛树脂与 PAC 技术，对比度高、侧壁陡直、CD 均匀性优异。

2. 宽工艺窗口，良率与产能双优

• 焦深（DOF）表现突出，对曝光剂量、焦距、显影时间宽容度大，量产良率稳定。

• 灵敏度适中（220 mJ/cm²），平衡分辨率与产能，适配高产量 i‑Line 步进机。

3. 环保溶剂体系，安全合规

• 采用EL/EEP 低毒溶剂，替代传统高毒溶剂，符合环保与职业健康要求，降低工厂安全风险。

4. 工艺兼容性强，易集成

• wan美适配标准 0.262N TMAH 显影液与成熟 i‑Line 光刻流程，无需设备改造。

• 与有机底部抗反射涂层（BARC）兼容，抑制驻波效应，提升图案精度。

5. 非反射衬底专用，性能ji致

• 专为氧化层、氮化层、多晶硅等非反射表面优化，避免反射干扰，图案保真度高。

• 黏附性、抗刻蚀性、耐热性均衡，适配干法 / 湿法刻蚀与离子注入工艺。

三、典型应用场景

• 逻辑 / 模拟 IC：0.35μm–0.30μm 栅极、接触孔、金属互连

• 电源管理 IC（PMIC）：高压 / 功率器件关键层光刻

• MCU / 传感器：汽车电子、工业控制、消费电子芯片

• 显示驱动 IC：LCD/OLED 驱动芯片

• 分立器件：MOSFET、IGBT、二极管等功率器件

四、选型与使用要点

• ✅ 适配：0.35μm–0.30μm 关键层、非反射衬底、高良率量产、i‑Line 步进机

• ⚠️ 注意：不适合强反射衬底（如铝、铜金属层），此类场景推荐 OiR 674 系列

• ❌ 不适用：>0.35μm 非关键层（性价比低）、<0.25μm xian进制程（需 KrF/ArF）