产品简介

USHIO牛尾MIKASA实验室掩膜对准光刻机
MA-10B 为牛尾三笠桌面型手动紫外光刻机，主打 4 英寸内小基板微纳打样研发，搭载汞灯多波段曝光光路，支持接触 / 接近式工艺，配备双目精密视觉对准，机身小巧易放置，安全联锁，适配实验室、研发试样多类光刻工艺。

一、设备基础定位

二、光学曝光系统特点

1. 标准宽波段 UV 光源

   搭载 250W 高压汞灯，覆盖 g/h/i 线多波段紫外，适配 AZ、SU-8 等绝大多数正 / 负光刻胶；有效曝光区域最大 4 英寸圆形基板，曝光计时 0~999.9s 精准可调，触控面板一键设置曝光时长。

2. 双倍率对准显微镜

   标配 10×/20× 双目观测镜头，20× 物镜下最小分辨 1.2μm，物镜间距 18~60mm 可调；可直观观测掩膜与基板标记，实现微米级人工套刻对准。

3. 两种曝光接触模式

   支持软接触、硬接触自由切换：软接触保护超薄 / 易碎基板，硬接触提升图形转印均匀性；可灵活切换接触式、接近式曝光工艺。

三、载台对准运动机构特点

1. 大行程微调机械手平台

   XY 总移动范围 ±50mm，搭配精密微调旋钮，大面积基板、异形小片都可快速找正；细分微调刻度，人工对准操作便捷，新手也能稳定操作。

2. 兼容多样化基板与掩膜

• 基板：最大 Φ4 英寸晶圆，支持硅片、玻璃、化合物半导体、薄膜、不规则异形基材；采用分区真空吸附，适配不同尺寸薄片、薄胶基底；

• 掩膜：最大 5 英寸标准铬版掩膜，标配防掉落抽拉式掩膜托架，更换掩膜安全便捷，避免玻璃掩膜磕碰碎裂。

3. 轻量化机身升级

   对比前代 MA-10 机型整机减重优化，桌面放置无需重型减震台，实验室通风橱、小型实验台均可摆放，搬运、移位难度低。

四、安全防护与操作智能化特点

1. 多重位置传感器联锁保护

   移动载台 Z 轴下限、显微镜翻转、掩膜 / 基板真空吸附、载台锁定位置全部配备感应传感器，误操作自动锁止曝光光源，杜绝压碎掩膜、撞损物镜风险。

2. 分体式触控控制单元

   光源、计时、真空吸附、载台升降全部集成独立触控面板，布线简洁，可灵活摆放操作位置，不遮挡观测视野。

五、工艺适配与拓展优势

1. 通用性很强

   兼容微流控芯片、MEMS 微机电、微光学透镜阵列、III-V 族化合物半导体、生物传感器、PCB 微线路、薄膜器件研发等场景，适配各类薄 / 厚胶光刻工艺。

2. 模块化可定制升级

   掩膜夹具、样品真空载台、光学光路配件均可按需定制，小尺寸 5×5mm 微型样品到大尺寸 4 英寸晶圆一台设备通用；可选配积分镜、多反射镜光路模组提升光照均匀度。

3. 低维护、实验室友好

   整机结构简洁，无复杂自动传动部件，日常仅需定期更换 UV 灯管；无复杂水冷，风冷散热即可稳定运行，适配常规实验室洁净 / 半洁净环境。

六、核心技术参数亮点总结

1. 最大加工基板：4 英寸；掩膜最大 5 英寸

2. 最小图形分辨：1.2μm（20× 目镜）

3. 对准方式：双目手动视觉对准

4. 曝光模式：接触式 / 接近式、软 / 硬接触可选

5. 光源：250W 汞灯 g/h/i 宽波段紫外

6. 安全：全行程位置感应联锁防误操作

7. 适配材料：硅、玻璃、砷化镓、氮化镓、柔性薄膜、异形基材