产品简介

日本DIC迪爱生超纯水防静电装置
是日本 DIC（迪爱生）依托自研SEPARAL 中空纤维透气膜技术开发的半导体 / 光电行业专用超纯水防静电设备，核心通过膜渗透溶解高纯 CO₂精准调控超纯水电阻率，解决 18.2MΩ・cm 超纯水绝缘易带静电的行业痛点，避免清洗工序静电击穿精密线路、粉尘静电二次吸附基板

日本DIC迪爱生超纯水防静电装置

是日本 DIC（迪爱生）依托自研SEPARAL 中空纤维透气膜技术开发的半导体 / 光电行业专用超纯水防静电设备，核心通过膜渗透溶解高纯 CO₂精准调控超纯水电阻率，解决 18.2MΩ・cm 超纯水绝缘易带静电的行业痛点，避免清洗工序静电击穿精密线路、粉尘静电二次吸附基板

日本DIC迪爱生超纯水防静电装置

一、产品概述

本款超纯水防静电设备由 DIC 迪爱生自主研发，核心搭载自研 SEPARAL 中空纤维透气膜技术，专为半导体、光电行业清洗工序打造。设备通过膜渗透方式溶解高纯二氧化碳，精准调节超纯水电阻率，解决 18.2MΩ・cm 超纯水绝缘性强、极易产生静电的行业难题，有效规避清洗过程中静电击穿精密线路、粉尘因静电二次吸附基板等不良问题，是晶圆、显示面板、光伏生产线的标准配套净化设备。

二、核心工作原理

1. 膜渗透溶气超纯水（DIW）于中空纤维膜内部流通，高纯二氧化碳从膜外侧渗透至水体内部；设备配套 DIC 致密表皮膜，仅允许气体通过、隔绝水体渗漏，溶气效率稳定无漏水隐患。

2. 离子化消除静电溶于水中的二氧化碳电离生成微量氢离子与碳酸氢根，使高绝缘超纯水具备微弱导电能力，快速导出水流、工件表面积蓄的静电。

3. 双路配比稳定电阻率设备采用双路水分流设计，一路制备二氧化碳饱和水，一路输送原生超纯水；系统自动调节两路水体混合比例，出水电阻率可在 0.2~1.5MΩ・cm 区间自由调控，面对流量波动工况，阻值稳定性远超传统鼓泡式设备。

三、产品核心优势

1. 运行稳定，故障发生率低整机无精密动泵、搅拌机械结构，采用模块化简约结构；搭配专用分流管路，流量骤变时电阻率波动幅度极小，适配切割、高压喷淋等流量变化大的生产工序。

2. 膜组件使用寿命长久原厂二氧化碳溶解模组享有 5 年质保，中空纤维膜耐超纯水长期冲刷腐蚀，运行过程无杂质析出，不会污染高纯水路。

3. 管路压力损耗小，改造投入低膜组件采用低压渗透设计，水路压力损失低，多数原有超纯水管道可直接加装，无需额外增设增压设备，降低产线改造费用。

4. 高洁净适配制程与水体接触部件均采用 PP、高纯氟树脂材质，无金属离子析出，满足晶圆、光罩等高洁净度生产工艺标准。

5. 一机多用，功能可拓展更换配套膜模组即可切换使用功能，可用于纯水脱氧、弱酸性清洗水制备、锅炉给水除氧等场景，适配多条不同工艺产线使用。

四、主流型号与流量规格

AP 开放式面板款（安装简易）

1. eFLOW 1AP：处理流量 1~16 L/min，单模组配置，适用于小型清洗槽、小流量喷淋工序

2. eFLOW 2AP：处理流量 5~30 L/min，双模组配置，标准晶圆清洗产线通用

3. eFLOW 3AP：处理流量 10~50 L/min，双模组配置，适配大流量清洗设备

AC 封闭式机柜款（无尘车间专用）

1. eFLOW 1AC-P201：处理流量 1~16 L/min，一体式电控机柜

2. eFLOW 2AC-P201：处理流量 5~30 L/min，量产标准产线主流配置

3. eFLOW 3AC-P201：处理流量 10~50 L/min，湿法清洗槽专用设备

大流量定制机型

eFLOW 5AC/5AP：处理流量 70~100 L/min，适配光伏硅片、大型显示面板整线清洗需求

五、主要应用场景

1. 半导体制造硅片切割清洗、晶圆湿法清洗、高压喷淋冲洗、掩模版与光罩精密清洗，预防静电损伤微米级精细线路。

2. 显示面板生产LCD、OLED 基板、彩膜、偏光片槽式清洗，避免静电吸附粉尘、产生像素坏点缺陷。

3. 精密电子加工PCB 精细线路漂洗、小型电子元器件超声波清洗工序。

4. 新能源光伏产业单晶硅、多晶硅片切割、制绒工艺超纯水防静电喷淋。

5. 其他精密制造领域光学镜片、精密五金零件、医用元器件高纯水洗工序。

六、设备使用成效

1. 有效消除静电吸附现象，减少基板表面颗粒缺陷，提升产品良率；

2. 规避静电放电（ESD）造成的光刻图形、芯片电路损坏问题；

3. 出水电阻率稳定可控，清洗水质统一，降低批次生产不良率；

4. 模块化结构便于维护，日常仅需定期更换二氧化碳气瓶，运维工作量小。