USHIO牛尾接触式/接近式UX-1系列/UX-3系列
是牛尾原厂经典掩膜对准曝光设备，适配半导体晶圆、PCB基板、光学器件、MEMS微结构常规光刻制程，支持接触式、接近式两种曝光模式自由切换，适配不同厚度感光层与基材平整度工况，搭载稳定UV光源、均匀照射光学系统与简易对位结构，操作流程简洁、曝光一致性稳定、制程适配性广，是科研试样、工艺验证与中小批量生产的通用型光刻配套设备。
USHIO牛尾接触式/接近式UX-1系列/UX-3系列
一、双模式曝光架构，适配多类制程需求
设备支持接触式与接近式两种主流光刻工艺模式，可根据产品工艺需求灵活切换。接触式模式适配常规干膜、厚胶、普通线路曝光，贴合稳定性好、图形还原度佳；接近式模式采用基板与掩膜分离结构，可规避直接接触带来的膜层压伤、粉尘粘连问题，适配薄胶层、精密表层结构、易损伤基材加工，双模式设计可覆盖大部分常规光刻应用场景。
二、稳定光学照射系统，曝光均匀性良好
搭载牛尾自研专属UV光学照射系统，依托多年光源与光路调校技术积累，光路输出稳定、照射范围均匀。设备光谱适配常规正负光刻胶、干膜感光材料的感光波段，可保障板面曝光能量分布均衡，减少局部曝光差异，缓解虚曝、过曝、线宽不均等制程问题，批次加工状态稳定，可满足常规精密图形复刻需求。
三、简易精准对位结构，调试操作便捷
设备配备手动精密对位平台，对位调节行程充裕、微调顺畅，可满足常规基板、掩膜版的基准校准需求。人机操作逻辑简洁，基准对位、间隙调节、曝光时序设定流程直观，新手可快速上手完成工艺调试与换型作业。设备重复对位表现稳定，适合多品类、小批量、频繁换样的研发与生产场景。
四、灵活间隙调节，基材适配范围宽泛
接近式模式支持掩膜与基板间隙可调节设置，可根据基材翘曲度、胶层厚度、图形精度需求匹配合理曝光间距，适配轻微平整度偏差的基板加工。可有效改善近距离曝光衍射偏差、远距离曝光能量不足的问题，兼顾图形清晰度与板面整体曝光均匀性，基材兼容度较高。
五、标准化时序控制，工艺可稳定复现
设备采用可控时序曝光控制系统，曝光时长、曝光能量档位可精准调节，可针对不同胶厚、不同感光材料匹配对应工艺参数。常规工艺参数可留存复用，换型调试便捷，批次作业流程统一，减少人为操作偏差，工艺数据可复现，便于实验室工艺迭代与产线标准化点检管控。
六、洁净适配结构，降低制程不良风险
整机机身结构简洁、防尘性良好，可适配常规无尘车间与精密实验室环境使用。接近式无接触作业可减少掩膜磨损、粉尘附着与基板压痕问题，降低基板二次污染与耗材损耗；接触式结构贴合均匀，可稳定保障常规线路成型品质，两种模式均可维持干净、稳定的光刻作业环境。
七、机身结构稳定，运维成本可控
整机光路、运动结构布局扎实，长期连续运行状态稳定，故障率低、设备衰减幅度小。核心光源发光寿命稳定，日常仅需定期清洁光路、校准基准对位，无需复杂运维工序。配件通用性强、维护便捷，整体使用与养护成本可控，适合长期常态化试样与量产作业。
八、多行业场景适配，工艺通用性强
广泛适配高校科研实验、半导体微纳工艺、MEMS器件制备、常规PCB线路加工、光学元件图案制作、精密光电零件光刻制程。可与牛尾匀胶机、显影机、蚀刻机等设备配套联用，搭建完整光刻工艺流程，适配工艺研发、样品试制、中小批量量产等多样化生产需求。
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