产品简介

日本TORAY东丽涂层剂感光聚酰亚胺Photonice
东丽 PHOTONEECE™系列下的正型感光聚酰亚胺涂层剂 PW 系列，是专为半导体及精密电子部件制造打造的材料，核心适配缓冲涂层、再布线层等场景。

日本TORAY东丽涂层剂感光聚酰亚胺Photonice

东丽 PHOTONEECE™系列下的正型感光聚酰亚胺涂层剂 PW 系列，是专为半导体及精密电子部件制造打造的材料，核心适配缓冲涂层、再布线层等场景。

日本TORAY东丽涂层剂感光聚酰亚胺Photonice

1.感光成像性能优异，适配精细加工

该系列作为正型感光材料，可采用碱性水溶液显影，契合电子制造领域主流显影工艺，无需额外搭配特殊显影试剂，兼顾环保性与工艺适配性。其解像度可达≥5μm，能精准完成精细图案成型，满足半导体再布线层、电子部件层间绝缘膜等对图形精度的严苛要求。同时它感光度表现出色，比如 3μm 膜厚下曝光量仅需 150 - 175mJ/cm²，5μm 膜厚下为 300 - 400mJ/cm²，可提升光刻环节的加工效率。且像 PW - 1500 这类改良型号，光刻性能进一步优化，适配多层布线和凸点工艺中的精细加工需求。

2.耐热与力学性能均衡，保障器件长效稳定

PW 系列固化温度需≥300℃，固化后耐热性突出，其玻璃化转变温度≥300℃，5% 重量减少温度≥450℃，能稳定应对半导体器件工作时的高温环境，以及后续焊接等高温加工流程。在力学性能上，该系列拉伸强度≥150MPa，伸长率≥50%，弹性模量达 3GPa，这种特性让涂层固化后不易出现开裂、破损等问题，可作为yong久膜长期留存于器件中。此外它热膨胀系数≤40ppm/℃，部分型号如 PW - 1000、PW - 1500 等热膨胀系数稳定在 36ppm/℃，能减少与基材间的热应力差异，降低器件在温度循环中的翘曲风险。

3.化学稳定性与绝缘性出众，适配复杂工况

该系列具备很强的耐化学腐蚀性，面对氢氧化钠、氢氧化钾等碱性溶液，以及硫酸与过氧化氢混合液、qing氟酸等常见电子加工用化学品时，均能保持性能稳定，不会出现明显损伤，可抵御半导体制造中多种化学处理工序的侵蚀。同时它的电气性能优异，介电常数低至 2.9，体积电阻与表面电阻均大于 10¹⁶Ω・cm，击穿电压超 420kV/mm，能有效发挥绝缘作用，避免电子部件中线路短路等问题，适配再布线层、绝缘膜等电气绝缘场景。而且其吸水率仅为 0.6%，可减少潮湿环境对电气性能的影响，保障器件在不同环境下的运行可靠性。

4.溶液稳定性好，加工与适配性强

PW 系列不同型号（如 PW - 1000、PW - 1200、PW - 1500）均具备良好的溶液稳定性，在 - 16℃环境下保质期可达 9 个月，4℃环境下为 6 个月，便于存储和批量生产调度。它适配旋涂等常见涂布方式，预烘工艺统一为 120℃/3 分钟，固化温度区间覆盖 320 - 380℃，工艺窗口宽泛，无需复杂的设备改造，可融入现有电子制造生产线。另外该系列对应膜厚范围为 1 - 11μm，不同细分型号还有针对性适配，如 PW - 1200 可实现 3 - 10μm 膜厚加工，能满足半导体缓冲涂层、电子部件层间绝缘等不同场景的膜厚需求。